濺射靶材的主要應用

濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

分類 根據形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶 根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據應用不同又分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材 磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

磁控濺射鍍膜靶材：

金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。

高純高密度濺射靶材有：

濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）

1. 金屬靶材：

鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等金屬濺射靶材。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、AZO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。

3.合金靶材

鎳鉻合金靶、鎳釩合金靶、鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鈦鋁合金、鎳釩合金靶、硼鐵合金靶、硅鐵合金靶等高純度合金濺射靶材。

鈦靶材的功能和特點誰知道 告訴下謝謝！！！！

北京泛德辰科技有限公司是北京中關村科技園區專門從事新材料研發、生產和全球銷售的高科技綜合性公司，是經北京市科委認定的高新技術企業。由資深專家領導的高素質的研發團隊、富有跨國公司管理經驗的管理人員領導的營銷團隊和高級財務經理團隊組成的一流專業人才是公司發展的堅強后盾。我公司通過熱（冷）等靜壓方法、金屬冶煉、粉末冶金法專業生產各種磁控濺射靶材：鉻管靶、鋁管靶、銅管靶、單晶硅基片，氧化硅基片，氧化鋁基片等。

主要根據客戶的具體要求加工各種規格，各種成分的靶材，我們的產品質量更高，價格更低，交貨時間短，與國內多家鍍膜廠，鍍膜機生產廠，科研機構，國內外大學保持良好的業務往來，目前我公司正以優質的產品、系統的服務和科學的管理為客戶提供共同成長、發展的空間。歡迎各界人士前來洽談業務，請告知我們您的具體需求，我們會給您我們同行業內更優惠的價格和更好的服務！

ito靶材是什么？

ito靶材屬于陶瓷靶材的一種，近些年來人們對于電腦、電視、手機顯示屏的追求越發明顯，由此也帶動了ito靶材的市場需求。但目前ito技術發展還不夠先進，發展空間巨大。

ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。

擴展資料：

國內對ITO靶材的需求量大幅增長，國內生產的ITO靶材密度低，無法滿足高端平板顯示器行業對于靶材質量的要求．僅僅部分用于低端液晶產品中。目前世界上只有日本、美國、德國等少數發達國家和地區能生產ITO靶材，而我國平板顯示器產業所需求的ITO靶材的98％依賴于進口，因此，研制開發ITO靶材生產技術是現有In生產企業開發In深加工技術的首選目標。

國外ITO靶材的生產工藝和技術設備已較為成熟和穩定。其主要制備方法有熱等靜壓法、熱壓法和燒結法。

靶材是什么

靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

材質分類：

⒈金屬靶材

鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

⒉陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

⒊合金靶材

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、 鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。

百度百科http://baike.baidu.com/view/601854.htm

靶材的運用原理

靶材運用:荷能粒子(例如氬離子)轟擊固體表面,引起表面各種粒子,如原子、分子或團束從該物體表面逸出的現象稱“濺射”.在磁控濺射鍍膜中,通常是應用氬氣電離產生的正離子轟擊固體(靶),濺出的中性原子沉積到基片(工件)上,形成膜層,磁控濺射鍍膜具有“低溫”和“快速”兩大特點. QQ:10213735

靶材的作用和用途?

靶材就是目標材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應.用于物理鍍膜中的濺鍍,主要有金屬靶材和陶瓷靶材.不知道你想問的是哪個領域使用的.

什么叫靶材?電容觸摸屏的靶材主要是什么?

電容觸摸屏用的鍍膜基板是用磁控濺射工藝制造的. 在磁控濺射制程中用到的鍍膜材料稱為靶材. 用作電容觸摸屏的靶材一般有:InSn,Si,Ag,Al,Mo等

靶材的介紹

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源.簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應.例如:蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等.更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).

靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產品呢？

【靶材的定義】

靶材的定義：

靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。中國最專業的展會平臺——808街。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

【靶材的種類】

靶材的種類：

1： 金屬靶材

2：陶瓷靶材

3：合金靶材

【磁控濺射靶材種類】：

金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。

硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。

【靶材的發展】

各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。

【靶材的制作工藝】

磁控濺射靶材

1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。

在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業的展會、會議、活動發布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。

若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

【應用領域】

1：微電子領域

2：平面顯示器用靶材

3：存儲技術用靶材

所以靶材其實就是新興的產業，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。

你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。

以上內容由808街負責整理并發布。

問下鍺這種物質是什么?

不能完全確認。

鍺曾經在人參等高級藥材中發現，而且這些藥材都有極高的保健、藥用價值，因此有的人認為鍺有保健價值。但針對鍺的科學定論還沒有，也就是不可信。

鍺的基本常識介紹鍺是1886年文克勒用光譜分析的方法發現的，但 是它“失業”了五十多年。化學家哥德斯密特曾經感慨地說過這樣的話：哈特萊煤礦的煤灰里有千分之十六的氧化鍺，這種煤灰1噸就可以生產16公斤的氧化鍺。假如這是金塊的話，那么運送車輛就得嚴密戒備。可是鍺卻是連小偷也不注意的東西。直到1942年，特別是最近以來，人們發現用鍺可以制造晶體管來代替電子管，用作雷達和電子計算機的主要元件，鍺才變為重要的尖端材料。　　 鍺在地殼中的含量為1．5％，比金、銀、碘等常見的元素多得多。不過，它太分散了，屬于稀散稀有金屬。在大自然中，沒有鍺礦。在煤礦中，大約含有十萬分之一左右的鍺，也就是說，在1n電煤中，大約含l0克的鍺。然而，在煙道灰中卻含有千分之一，甚至百分之一的鍺。含鍺的礦物有硫鍺鐵礦，淺色閃鋅礦等，其中鍺都以雜質存在。　　 鍺是一種淺灰色的金屬。據x光的研究證明；鍺晶體里的原子排列，與金剛石相同。所以它硬而脆。　　 鍺用來制造晶體整流器(二極管)、晶體放大器(三極管)、檢波器等，比通常的電子管壽命長、體積小、耐震、耐撞，所以被廣泛地用于電子計算機、雷達設備、遙控儀器上。　　 用作半導體材料的鍺，必須非常純，含鍺要在 99．999999％以上(簡稱八個九)。現在，人們用區域熔煉法，已經制出了十一個九以上的純鍺，也就是說，在一千億個原子中，只有一個雜質原子。現在，全世界鍺的年產量只有幾十噸。你別以為這個數字很小，要知道每個半導體器件所需要的鍺，只有極少極少的一點兒，幾十噸的鍺，可以制成幾十億個半導體器件　　 鍺的電阻在溫度改變的時候，會立即發生靈敏的變化，所以鍺還被用來制造熱敏電阻，來測定溫度。這種熱敏電阻，甚至可以覺察到1公里以外人體所射出的紅外線。這種熱敏電阻還被廣泛地應用于尋找地下水，尋找千米以外的飛行目標，因為它可以測出萬分之五攝氏度的微小變化。　　 鍺可以用來制造光電池。光照射到經過特殊處理的半導體上，能夠不斷地放出電來。光照越強，發電能力越大。鍺光電池把光能直接變成電能，既不需要鍺燃料，又不需要成套設備，為我們從太陽光那里取得無窮無盡的廉價電力開辟了新途徑。醫學上，由于鍺能刺激紅血球的生成，所以鍺的化合物可用來治療貧血病與嗜眠癥。鍺亦為生命必需微量元素。有機鍺在人體中有很強的脫氫能力，可防止細胞衰老，增強人體免疫力。鍺還具有抗腫瘤、抗炎癥、抗病毒等生理作用。據日本學者報道，有機鍺是一種廣譜抗癌藥，治療轉移性肺癌、肝癌、生殖系統癌和白血病都有效。據瑞典和美國報道，有機鍺治療惡性淋巴癌、卵巢癌、子宮頸癌、大腸癌、前列腺癌和黑色素癌均有效。因此，有機鍺被譽為“人類健康的保護神”。