做光刻膠的上市公司是哪一家?
做光刻膠的上市公司是：永太科技。
簡(jiǎn)介：
CF光刻膠有望首家國(guó)產(chǎn)化，將受益于下游液晶面板廠商為降低成本而主動(dòng)進(jìn)行的進(jìn)口替代。永太科技公司2014年1月股東會(huì)通過(guò)了非公開(kāi)發(fā)行股票預(yù)案，募集資金投向之一為1500噸平板顯示彩色濾光膜材料產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，現(xiàn)與下游客戶進(jìn)行合作能夠更清晰把握市場(chǎng)需求，加快量產(chǎn)進(jìn)度。CF光刻膠是主流生產(chǎn)CF工藝所需的主要原材料，目前生產(chǎn)被外資所壟斷，公司量產(chǎn)后將受益于國(guó)內(nèi)下游液晶面板廠商為降低成本而主動(dòng)進(jìn)行的進(jìn)口替代。目前市場(chǎng)容量約1.5萬(wàn)噸，進(jìn)口CF光刻膠為75美元/kg，毛利率高達(dá)70%，未來(lái)公司憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)將會(huì)逐漸占據(jù)更多市場(chǎng)。
原有業(yè)務(wù)經(jīng)過(guò)多年客戶導(dǎo)入，有望爆發(fā)。公司原有業(yè)務(wù)經(jīng)過(guò)多年發(fā)展后技術(shù)更成熟，分析師預(yù)計(jì)單晶產(chǎn)品有望突破；農(nóng)藥中間體也在經(jīng)歷客戶培育期后有望爆發(fā)。公司有機(jī)氟技術(shù)突出，形成了芳香族含氟產(chǎn)品的完整生產(chǎn)鏈，所生產(chǎn)醫(yī)藥中間體下游用于心血管類、糖尿病類、精神類和抗病毒類等藥物。擬募投的30億片出口制劑基地產(chǎn)品也多圍繞公司技術(shù)強(qiáng)項(xiàng)，為原有業(yè)務(wù)向下游的拓展。
光刻膠是什么東西?
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料. 光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類.在光刻膠工藝過(guò)程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來(lái),該涂層材料為正性光刻膠.如果曝光部分被保留下來(lái),而未曝光被溶解,該涂層材料為負(fù)性光刻膠.按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等.光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè).光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜,品種規(guī)格較多,在電子工業(yè)集成電路的制造中,對(duì)所使用有嚴(yán)格的要求.
什么是光刻膠以及光刻膠的種類
光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。 1、光刻膠的作用： a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中； b、在后續(xù)工序中，保護(hù)下面的材料（刻蝕或離子注入）。2、光刻膠的物理特性參數(shù)： a、分辨率（resolution）。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來(lái)衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。 b、對(duì)比度（Contrast）。指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過(guò)渡的陡度。對(duì)比度越好，形成圖形的側(cè)壁越陡峭，分辨率越好。 c、敏感度（Sensitivity）。光刻膠上產(chǎn)生一個(gè)良好的圖形所需一定波長(zhǎng)光的最小能量值（或最小曝光量）。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻膠的敏感性對(duì)于波長(zhǎng)更短的深紫外光（DUV）、極深紫外光（EUV）等尤為重要。 d、粘滯性/黏度（Viscosity）。衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會(huì)產(chǎn)生厚的光刻膠；越小的粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重（SG，Specific Gravity）是衡量光刻膠的密度的指標(biāo)。它與光刻膠中的固體含量有關(guān)。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體，粘滯性更高、流動(dòng)性更差。粘度的單位：泊（poise），光刻膠一般用厘泊（cps，厘泊為1%泊）來(lái)度量。百分泊即厘泊為絕對(duì)粘滯率；運(yùn)動(dòng)粘滯率定義為：運(yùn)動(dòng)粘滯率=絕對(duì)粘滯率/比重。單位：百分斯托克斯（cs）＝cps/SG。 e、粘附性（Adherence）。表征光刻膠粘著于襯底的強(qiáng)度。光刻膠的粘附性不足會(huì)導(dǎo)致硅片表面的圖形變形。光刻膠的粘附性必須經(jīng)受住后續(xù)工藝（刻蝕、離子注入等）。 f、抗蝕性（Anti-etching）。光刻膠必須保持它的粘附性，在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。 g、表面張力（Surface Tension）。液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間吸引力。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動(dòng)性和覆蓋。 h、存儲(chǔ)和傳送（Storage and Transmission）。能量（光和熱）可以激活光刻膠。應(yīng)該存儲(chǔ)在密閉、低溫、不透光的盒中。同時(shí)必須規(guī)定光刻膠的閑置期限和存貯溫度環(huán)境。一旦超過(guò)存儲(chǔ)時(shí)間或較高的溫度范圍，負(fù)膠會(huì)發(fā)生交聯(lián)，正膠會(huì)發(fā)生感光延遲。3、光刻膠的分類 a、根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類：負(fù)性光刻膠和正性光刻膠。 負(fù)性光刻膠（Negative Photo Resist）。最早使用，一直到20世紀(jì)70年代。曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián)，難溶于顯影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻擋作用、感光速度快；顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹。所以只能用于2μm的分辨率。 正性光刻膠（Positive Photo Resist）。20世紀(jì)70年代，有負(fù)性轉(zhuǎn)用正性。正性光刻膠的曝光區(qū)域更加容易溶解于顯影液。特性：分辨率高、臺(tái)階覆蓋好、對(duì)比度好；粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。 b、根據(jù)光刻膠能形成圖形的最小光刻尺寸來(lái)分：傳統(tǒng)光刻膠和化學(xué)放大光刻膠。 傳統(tǒng)光刻膠。適用于I線（365nm）、H線（405nm）和G線（436nm），關(guān)鍵尺寸在0.35μm及其以上。 化學(xué)放大光刻膠（CAR，Chemical Amplified Resist）。適用于深紫外線（DUV）波長(zhǎng)的光刻膠。KrF（248nm）和ArF（193nm）。4、光刻膠的具體性質(zhì) a、傳統(tǒng)光刻膠：正膠和負(fù)膠。光刻膠的組成：樹(shù)脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent），保持光刻膠的液體狀態(tài)，使之具有良好的流動(dòng)性；添加劑（Additive），用以改變光刻膠的某些特性，如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑等。 負(fù)性光刻膠。樹(shù)脂是聚異戊二烯，一種天然的橡膠；溶劑是二甲苯；感光劑是一種經(jīng)過(guò)曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯影液。負(fù)性光刻膠在曝光區(qū)由溶劑引起泡漲；曝光時(shí)光刻膠容易與氮?dú)夥磻?yīng)而抑制交聯(lián)。 正性光刻膠。樹(shù)脂是一種叫做線性酚醛樹(shù)脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性，當(dāng)沒(méi)有溶解抑制劑存在時(shí)，線性酚醛樹(shù)脂會(huì)溶解在顯影液中；感光劑是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常見(jiàn)的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一種強(qiáng)烈的溶解抑制劑，降低樹(shù)脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻膠中化學(xué)分解，成為溶解度增強(qiáng)劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應(yīng)會(huì)在DNQ中產(chǎn)生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對(duì)比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。 b、化學(xué)放大光刻膠（CAR，Chemical Amplified Resist）。樹(shù)脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)（t-BOC）的聚乙烯（PHS）。有保護(hù)團(tuán)的樹(shù)脂不溶于水；感光劑是光酸產(chǎn)生劑（PAG，Photo Acid Generator），光刻膠曝光后，在曝光區(qū)的PAG發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)會(huì)產(chǎn)生一種酸。該酸在曝光后熱烘（PEB，Post Exposure Baking）時(shí)，作為化學(xué)催化劑將樹(shù)脂上的保護(hù)基團(tuán)移走，從而使曝光區(qū)域的光刻膠由原來(lái)不溶于水轉(zhuǎn)變?yōu)楦叨热苡谝运疄橹饕煞值娘@影液。化學(xué)放大光刻膠曝光速度非常
光刻膠~~光刻膠的概念是什么?
光刻膠
photoresist
又稱光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑（見(jiàn)光譜增
感染料）和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液
體。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化
反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合
性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚恚苋タ扇苄圆?/p>
分，得到所需圖像（見(jiàn)圖光致抗蝕劑成像制版過(guò)程）。
光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制
版等過(guò)程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)
反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照
后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不
可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這
種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的
電路圖形。基于感光樹(shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為
三種類型。①光聚合型，采用烯類單體，在光作用下生
成自由基，自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚
合物，具有形成正像的特點(diǎn)。②光分解型，采用含有疊
氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會(huì)發(fā)生光分解反應(yīng),由
油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z。③光交聯(lián)型，采
用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其
分子中的雙鍵被打開(kāi)，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成
一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典
型的負(fù)性光刻膠。柯達(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。
感光樹(shù)脂在用近紫外光輻照成像時(shí)，光的波長(zhǎng)會(huì)限
制分辨率（見(jiàn)感光材料）的提高。為進(jìn)一步提高分辨率
以滿足超大規(guī)模集成電路工藝的要求，必須采用波長(zhǎng)更
短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X 射線和深紫外
(＜250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，X射線刻蝕
膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細(xì)至1□m以下。
http://www.adsonbbs.com/baike_detail.asp?id=68
光刻膠在接受一定波長(zhǎng)的光或者射線時(shí),會(huì)相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵(lì)作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵(lì)態(tài)時(shí)引起的。對(duì)于有機(jī)物，基態(tài)與激勵(lì)態(tài)的能量差為3~6eV，相當(dāng)于該能量差的光(即波長(zhǎng)為0.2~0.4μm的光)被有機(jī)物強(qiáng)烈吸收，使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵(lì)態(tài)。化學(xué)鍵合在受到這種激勵(lì)時(shí)，或者分離或者改變鍵合對(duì)象，發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后，因與物質(zhì)具有的電子相互作用，能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中，因此生成激勵(lì)狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。
怎樣區(qū)分國(guó)產(chǎn)與進(jìn)口 PI 聚酰亞胺薄膜
聚酰亞胺薄膜polyimide film I film 包括均苯型聚酰亞胺薄膜和聯(lián)苯型聚酰亞胺薄膜兩類。 前者為美國(guó)杜邦公司產(chǎn)品，商品名Kapton，由均苯四甲酸二酐與二苯醚二胺制得。后者由日本宇部興產(chǎn)公司生產(chǎn)，商品名Upilex，由聯(lián)苯四甲酸二酐與二苯醚二胺(R型)或間苯二胺(S型)制得。薄膜制備方法為：聚酰胺酸溶液流延成膜、拉伸后，高溫酰亞胺化。 薄膜呈黃色透明，相對(duì)密度1.39～1.45，有突出的耐高溫、耐輻射、耐化學(xué)腐蝕和電絕緣性能，可在250～280℃空氣中長(zhǎng)期使用。玻璃化溫度分別為280℃(Upilex R)、385℃(Kapton)和500℃以上(Upilex S)。20℃時(shí)拉伸強(qiáng)度為200MPa，200℃時(shí)大于100MPa。特別適宜用作柔性印制電路板基材和各種耐高溫電機(jī)電器絕緣材料。聚酰亞胺是目前已經(jīng)工業(yè)化的高分子材料中耐熱性最高的品種，由于具有優(yōu)越的綜合性能，所以可以作為薄膜、涂料、塑料、復(fù)合材料、膠粘劑、泡沫塑料、纖維、分離膜、液晶取向劑、光刻膠等在高新技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用，被稱為“解決問(wèn)題的能手”。 聚酰亞胺薄膜又是一種新型的耐高溫有機(jī)聚合物薄膜 , 是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)在極強(qiáng)性溶劑二甲基乙酰胺(DMAC)中經(jīng)縮聚并流涎成膜,再經(jīng)亞胺化而成.它是目前世界上性能最好的薄膜類絕緣材料,具有優(yōu)良的力學(xué)性能 、 電性能 、 化學(xué)穩(wěn)定性以及很高的抗輻射性能、 耐高溫和耐低溫性能 (-269 ℃至 + 400 ℃ )。1959 年美國(guó)杜邦公司首先合成出芳香族聚酰亞胺 ,1962 年試制成聚酰亞胺薄膜 (PI薄膜 ),1965 年開(kāi)始生產(chǎn) , 商品牌號(hào)為 KAPTON。 60 年代末我國(guó)只能小批量生產(chǎn)聚酰亞胺薄膜，現(xiàn)在聚酰亞胺薄膜已廣泛應(yīng)用于航空、航海、宇宙飛船、火箭導(dǎo)彈、原子能、電子電器工業(yè)等各個(gè)領(lǐng)域。
光刻膠的氣味對(duì)人體有哪些危害?
網(wǎng)上有人說(shuō):光刻膠的危害主要是溶劑,負(fù)膠的溶劑是二甲苯毒性很大,而且非水溶性,難 … 不過(guò)顯影去膠用的是堿液,方便無(wú)毒.總之,身體使自己,要好好愛(ài)惜! 個(gè)人認(rèn)為光刻膠一般不會(huì)有太多的傷害,因?yàn)槟阌玫臅r(shí)候不是都戴著手套和口罩嗎?皮膚不能接觸,它們又具有很強(qiáng)的揮發(fā)性,沒(méi)有什么可怕的!但是畢竟是有機(jī)物嘛,所以需要注意一下.但是你放心吧,沒(méi)有傷害!!!如果有很大的傷害,網(wǎng)上的答案可是會(huì)很多很多的!呵呵 純粹個(gè)人觀點(diǎn)!因?yàn)槲乙恢庇?/p>
光刻膠是一種應(yīng)用廣泛的光敏材料，其合成路線如下（部分試劑和產(chǎn)物略去）： 已知：Ⅰ． （R，R’為烴基
（1）醛基
（2）CH 3 COOH
CH 3 COO – +H +
（3）a b c（選對(duì)兩個(gè)給1分，錯(cuò)選或多選為0分）
（4）
（5）CH 3 COOCH=CH 2
（6）
、
（7）
一定條件
（此方程式不寫條件不扣分）
試題分析：根據(jù)D，可以反推出A為
，B為
，C為
，羧酸X為CH 3 COOH，E為
，F(xiàn)為
；
（1）
分子中含氧官能團(tuán)名稱為醛基
（2）羧酸CH 3 COOH的電離方程式為CH 3 COOH
CH 3 COO – +H +
（3）
含有碳碳雙鍵，羧基，苯環(huán)，可發(fā)生的反應(yīng)類型為加聚反應(yīng)，酯化反應(yīng)，還原反應(yīng)，不能發(fā)生縮聚反應(yīng)。
（4）
與Ag(NH 3 ) 2 OH反應(yīng)的化學(xué)方程式為
+
（5）E的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為CH 3 COOCH=CH 2 。
（6）與
具有相同官能團(tuán)且含有苯環(huán)的同分異構(gòu)體有4種，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式分別為
、
、
、
。
（7）D和G反應(yīng)生成光刻膠的化學(xué)方程式為
一定條件
。
考點(diǎn)：
光刻膠有毒嗎
有毒,刺激性氣味,開(kāi)光阻瓶口時(shí)要求戴上防毒面罩!
光刻膠 EPG 533 哪個(gè)公司
臺(tái)灣永光化學(xué)
使用光刻膠的客戶有哪些
光刻膠有幾種,起碼分為正膠和負(fù)膠.要看你的是那種光刻膠,才能知道有哪些客戶.一般都是半導(dǎo)體或者液晶行業(yè)還有一些科研機(jī)構(gòu)會(huì)用到光刻膠.